CHINA Precio de fábrica personalizado Objetivos de titanio 100*40mm 100*45mm,95*45mm Revestimiento

Precio de fábrica personalizado Objetivos de titanio 100*40mm 100*45mm,95*45mm Revestimiento

Calificación: Grado 1, Grado 2
Pureza: 99.97%
Proceso de formación: el presionar isostático caliente (HIP)
CHINA Objetivo de pulverización de titanio Ti para revestimiento Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD

Objetivo de pulverización de titanio Ti para revestimiento Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD

Materiales: Titanio
Calificación: Grado 1, grado 2, grado 5, grado 7
sobredosis: 10-914m m
CHINA Bloque del grado 23 de la blanco del titanio Gr5-Eli para el implante dental ASTM F136

Bloque del grado 23 de la blanco del titanio Gr5-Eli para el implante dental ASTM F136

Materiales: Titanio
Calificación: Grado 5, grado 23
sobredosis: 90-600m m
CHINA Objetivo de pulverización de metal PVD 100x40 mm Decoración y recubrimiento de herramientas

Objetivo de pulverización de metal PVD 100x40 mm Decoración y recubrimiento de herramientas

Tamaño de grano: < 100 mm
Tipo: blanco de la farfulla
Técnico: Rueda, forjada, CNC
CHINA Discos de titanio 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm para dientes falsos

Discos de titanio 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm para dientes falsos

Tamaño: Personalizado
Tipo de objetivo: Giratorio
Densidad: Personalizado
CHINA 99.995% de pureza Titanio Sputtering objetivo PVD revestimiento de objetivos de tubo rotativo

99.995% de pureza Titanio Sputtering objetivo PVD revestimiento de objetivos de tubo rotativo

Nombre del producto: Objetivos de tubos de titanio
Material: Titanio puro Grado 1
Purificación: 99.9%-99.999%
CHINA OEM PVD 5N+ 99,9995% Objetivos de titanio de alta pureza Objetivos de semiconductores películas finas

OEM PVD 5N+ 99,9995% Objetivos de titanio de alta pureza Objetivos de semiconductores películas finas

Nombre del producto: Material para objetivos de titanio semiconductor
Purificación: 5N+(99.9993%-99.9995%)
Tamaño del grano: < 100 mm
CHINA 99.9%-99.999% Pureza Deposición de película delgada Objetivos de titanio 3N-5N Objetivos de pulverización de titanio

99.9%-99.999% Pureza Deposición de película delgada Objetivos de titanio 3N-5N Objetivos de pulverización de titanio

Nombre del producto: Objetivos de titanio para la deposición de películas finas
El material: titanio puro
Purificación: 3N-5N
CHINA Objetivos de pulverización de pureza única/múltiples personalizados con superficie pulida

Objetivos de pulverización de pureza única/múltiples personalizados con superficie pulida

Substrate Compatibility: Customized
Purity: 99.99%
Density: Customized
CHINA 99.99% de pureza Metales de pulverización de blanco con la estructura de cristal de la superficie pulida

99.99% de pureza Metales de pulverización de blanco con la estructura de cristal de la superficie pulida

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
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