CHINA Objetivo de pulverización de titanio 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD

Objetivo de pulverización de titanio 100*45mm 100*40mm Ti Ti-Al Zr Cr para revestimiento PVD

Materiales: el titanio
Grado: Grado 1
- ¿ Qué?: 90-600m m
CHINA Discos de titanio 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm para dientes falsos

Discos de titanio 98x10mm, 98x12mm, 98x20mm para dientes falsos

tamaño: Personalizado
Tipo de objetivo: giratorio
Densidad: Personalizado
CHINA 99.995% de pureza Titanio Sputtering objetivo PVD revestimiento de objetivos de tubo rotativo

99.995% de pureza Titanio Sputtering objetivo PVD revestimiento de objetivos de tubo rotativo

Nombre del producto: Objetivos de tubos de titanio
Material: Titanio puro Grado 1
Purificación: 99.9%-99.999%
CHINA Objetivo de pulverización de metal PVD 100x40 mm Decoración y recubrimiento de herramientas

Objetivo de pulverización de metal PVD 100x40 mm Decoración y recubrimiento de herramientas

Tamaño del grano: < 100 mm
Tipo de producto: blanco de la farfulla
Las condiciones técnicas: Rueda, forjada, CNC
CHINA OEM PVD 5N+ 99,9995% Objetivos de titanio de alta pureza Objetivos de semiconductores películas finas

OEM PVD 5N+ 99,9995% Objetivos de titanio de alta pureza Objetivos de semiconductores películas finas

Nombre del producto: Material para objetivos de titanio semiconductor
Purificación: 5N+(99.9993%-99.9995%)
Tamaño del grano: < 100 mm
CHINA 99.9%-99.999% Pureza Deposición de película delgada Objetivos de titanio 3N-5N Objetivos de pulverización de titanio

99.9%-99.999% Pureza Deposición de película delgada Objetivos de titanio 3N-5N Objetivos de pulverización de titanio

Nombre del producto: Objetivos de titanio para la deposición de películas finas
El material: titanio puro
Purificación: 3N-5N
CHINA Objetivos de pulverización de pureza única/múltiples personalizados con superficie pulida

Objetivos de pulverización de pureza única/múltiples personalizados con superficie pulida

Substrate Compatibility: Customized
Purity: 99.99%
Density: Customized
CHINA 99.99% de pureza Metales de pulverización de blanco con la estructura de cristal de la superficie pulida

99.99% de pureza Metales de pulverización de blanco con la estructura de cristal de la superficie pulida

Surface: Polished, Anodizing
Surface Finish: Polished
Crystal Structure: Customized
CHINA Objetivo metálico personalizado para recubrimientos de pulverización de configuración única o múltiple Ra 0,8 Um

Objetivo metálico personalizado para recubrimientos de pulverización de configuración única o múltiple Ra 0,8 Um

Coating Method: Sputtering
Technique: Forged And CNC Machined
Target Configuration: Single Or Multiple
CHINA Objetivo de pulverización de aleación de indio con sustratos personalizados pulidos y anodizados

Objetivo de pulverización de aleación de indio con sustratos personalizados pulidos y anodizados

Target Bonding: Indium
Substrate Compatibility: Customized
Surface Roughness: Ra < 0.8 Um
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