99Pistola de recubrimiento de polvo electrostático redondo con acabado de superficie pulido.

Descripción del producto:

La estructura cristalina del objetivo de pulverización de metal se puede personalizar para satisfacer los requisitos únicos de cada aplicación.que es esencial para lograr resultados óptimosLa superficie también puede ser anodizada para una mayor durabilidad y resistencia al desgaste.

La pureza del objetivo de pulverización de metal es del 99,99%, lo que garantiza que ofrece un rendimiento constante a lo largo del tiempo.Este alto nivel de pureza se logra mediante un proceso de fabricación riguroso que implica el uso de tecnologías y técnicas avanzadas.

El objetivo de pulverización de metal está unido con indio, lo que proporciona una conexión fuerte y confiable con el sustrato.Este proceso de unión es fundamental para garantizar que el objetivo esté firmemente fijado en su lugar durante el proceso de pulverización.

El objetivo de pulverización de metal es compatible con una variedad de sistemas de pulverización, incluidos los que utilizan una pistola de recubrimiento de polvo electrostático, un haz de acero al carbono I o una pistola de pegamento de fusión en caliente.Esta compatibilidad lo convierte en un producto versátil que puede utilizarse en una amplia gama de aplicaciones industriales y científicas.

En general, el objetivo de pulverización de metal es un producto de alta calidad que ofrece un rendimiento confiable y constante.y alta pureza lo convierten en una opción ideal para una amplia gama de aplicaciones, mientras que su fuerte unión con el indio asegura que permanezca firmemente en su lugar durante el proceso de pulverización.

Características:

• Nombre del producto: Objetivo de pulverización de metales
• Roughness de la superficie: Ra < 0,8 Um
• Configuración del objetivo: único o múltiple
• Superficie: pulido, anodizado
• Finalización de la superficie: pulido
• Pureza: 99,99%

Este producto es ideal para industrias que requieren metales de alta pureza para sus procesos.La configuración del objetivo puede ser un solo o múltiples objetivosLa superficie puede ser pulida o anodizada, dependiendo de su preferencia.La pureza del metal es 99Este producto es un componente clave en la impresión 3D de polvo de metal, carbono de acero I,y procesos de fabricación de pistolas de pegamento de fusión en caliente.

Parámetros técnicos:

Aplicaciones:

Una de las aplicaciones principales de Metal Sputtering Target es en la fabricación de semiconductores.El objetivo de pulverización de metal también se utiliza en la producción de células solaresAdemás, este material es ideal para su uso en la producción de medios de almacenamiento magnéticos, como unidades de disco duro.

Otra aplicación de Metal Sputtering Target es en la producción de recubrimientos decorativos.El material se utiliza en el arma de recubrimiento de polvo electrostático para crear un recubrimiento suave y uniforme en varias superficiesEl objetivo de pulverización de metales también se utiliza en la fabricación de metales de aleación de acero de alto rendimiento,que se utiliza comúnmente en las industrias aeroespacial y automotriz.

Además, el objetivo de pulverización de metal se utiliza ampliamente en la producción de dispositivos y equipos médicos.y otros implantes médicosTambién se utiliza en la producción de instrumentos y herramientas médicas.

El objetivo de pulverización de metales es compatible con una amplia gama de procesos de fabricación, incluido el prensado isostático en caliente (HIP) y varios procesos de mecanizado.También es ideal para su uso en aplicaciones que requieren una alta precisión y precisiónEl material puede configurarse como un solo o múltiples objetivos, dependiendo de los requisitos específicos de la aplicación.

El objetivo de pulverización de metal también es adecuado para su uso en la máquina de detección de metales de transporte.El material también es fácil de limpiar y mantener, por lo que es una solución rentable para diversas aplicaciones.

Personalización:

Personalice su objetivo de pulverización de metal con nuestros servicios de personalización de productos.

• Roughness de la superficie: Ra < 0,8 Um
• Superficie: pulido, anodizado
• Estructura de cristal: personalizada
• Forma: redonda
• Proceso de moldeo: Presión isostática en caliente (HIP)

Nuestro objetivo de pulverización de metales está hecho con un haz de acero carbono de alta calidad y es compatible con nuestra tecnología de detector de metales de caída libre.ofrecemos 3D Impresión de polvo de metal para sus necesidades de personalización.

Apoyo y servicios:

Nuestros productos de metales de pulverización están diseñados para cumplir con los exigentes requisitos de deposición de película delgada en las industrias de semiconductores, pantallas y energía solar.Ofrecemos una amplia gama de materiales incluyendo metales puros, aleaciones y cerámicas en diversas formas y tamaños para adaptarse a sus necesidades específicas de proceso.

Nuestro equipo de soporte técnico está disponible para ayudarle con cualquier pregunta que pueda tener sobre nuestros objetivos de pulverización, incluida la selección de materiales, unión de objetivos y optimización de procesos.También ofrecemos servicios de diseño y fabricación personalizados para satisfacer sus requisitos únicos.

Además de nuestros productos de pulverización, también ofrecemos una variedad de servicios para apoyar sus procesos de deposición de película delgada.

• Servicios de fianza de destino
• Objetivo de reciclado y recuperación
• Caracterización y análisis de películas finas
• Mantenimiento y reparación de equipos

Nuestro objetivo es proporcionarle productos y servicios de alta calidad para ayudarle a alcanzar sus objetivos de deposición de película delgada.Póngase en contacto con nosotros hoy para obtener más información acerca de nuestros productos y servicios Metales de pulverización de objetivos.